Fil-qasam tal-ipproċessar tal-metall u t-trattament tal-wiċċ, il-ligi tat-titanju jintużaw ħafna fl-ajruspazju, apparat mediku, u industriji tal-ġojjellerija high-minħabba s-saħħa speċifika għolja tagħhom, densità baxxa, reżistenza għall-korrużjoni eċċellenti, u bijokompatibilità tajba. Bħala proċess ewlieni biex ittejjeb il-proprjetajiet tal-wiċċ tal-ligi tat-titanju u tagħtihom dehra dekorattiva, l-anodizzar jaffettwa direttament il-prestazzjoni u l-valur miżjud tal-komponenti.
Il-konċentrazzjoni tal-elettroliti hija waħda mill-parametri ewlenin li jiddeterminaw ir-rata tal-formazzjoni tal-film anodizzanti u l-kwalità tal-film tal-liga tat-titanju. Konċentrazzjoni għolja wisq se taċċellera b'mod sinifikanti t-tkabbir tal-film tal-ossidu, iżda proċess ta 'formazzjoni ta' film veloċi wisq jista 'faċilment jinduċi tqassim lokali jew "ablation", li jirriżulta f'mikrostruttura maħlula u żieda fil-ħruxija tal-wiċċ, li mbagħad taffettwa l-uniformità tal-effett tal-interferenza ottika u twassal għal żvilupp irregolari tal-kulur. Pereżempju, fl-elettroliti tal-aċidu fosforiku, jekk il-konċentrazzjoni tal-aċidu fosforiku hija għolja, il-film tal-ossidu ffurmat fuq il-wiċċ tal-liga tat-titanju ħafna drabi jkun ħoxnin u irregolari, u ż-żona tal-ablazzjoni tesponi l-matriċi minħabba l-ħsara tas-saff tal-film, li tifforma differenza ovvja tal-kulur u kuntrast ċaroscuro maż-żona tal-madwar.
Għall-kuntrarju, jekk il-konċentrazzjoni tal-elettrolit tkun baxxa wisq, il-film-li jiffurmaw il-forza tas-sewqan hija insuffiċjenti, u l-film tal-ossidu jikber bil-mod, u jagħmilha diffiċli li tifforma saff tal-film bi struttura densa u ħxuna uniformi. Dan it-tip ta 'film mhux biss inaqqas il-proprjetajiet mekkaniċi u r-reżistenza għall-korrużjoni, iżda jaffettwa wkoll il-proprjetajiet ottiċi tiegħu, li jimmanifesta bħala kulur matt u distribuzzjoni irregolari. Pereżempju, f'elettrolit ta 'aċidu sulfuriku b'konċentrazzjoni baxxa-, il-film ta' l-ossidu miksub huwa ġeneralment irqiq, maħlul fl-istruttura, kulur ċar u ovvjament imħawwad.
It-temperatura tal-elettrolit għandha impatt ewlieni fuq il-kwalità strutturali u l-konsistenza tal-kulur tal-film tal-ossidu. Iż-żieda fit-temperatura se ttejjeb il-mobilità tal-jone, tintensifika t-tfixkil tas-sistema ta 'reazzjoni, tikkawża varjazzjonijiet fil-kurrent u l-vultaġġ, u mbagħad twassal għall-iżbilanċ tar-rata ta' tkabbir lokali tas-saff tal-film u tnaqqas l-uniformità ġenerali. Barra minn hekk, temperaturi għoljin jistgħu jinduċu reazzjonijiet sekondarji, bħal dissoluzzjoni lokali jew rikristallizzazzjoni tal-film tal-ossidu, li jkompli jfixkel il-kontinwità tas-saff tal-film.
Meta t-temperatura ta 'l-elettrolit tkun għolja wisq, ir-reazzjoni ta' ossidazzjoni tal-wiċċ tal-liga tat-titanju hija vjolenti, u s-saff tal-film f'xi żoni jeħxien wisq malajr, li jiffurmaw struttura mgħollija, filwaqt li l-ħxuna tal-film f'żoni oħra hija rqiqa, li tirriżulta f'kulur ta 'interferenza inkonsistenti ikkawżat mid-differenza fil-ħxuna tal-film. Taħt kundizzjonijiet ta 'temperatura baxxa, il-kinetika tar-reazzjoni hija limitata, ir-rata tal-formazzjoni tal-film tonqos b'mod sinifikanti, u l-grad ta' ossidazzjoni jvarja f'reġjuni differenti, li huwa suxxettibbli għal "blooming", jiġifieri, il-wiċċ jidher plakka jew differenza tal-kulur strixxi. Per eżempju, fl-elettrolit tal-kromat ta '-temperatura baxxa, films tal-ossidu tal-liga tat-titanju spiss jikbru b'mod irregolari, b'distribuzzjoni ovvja tal-garża tal-kulur.
Il-vultaġġ ta 'ossidazzjoni huwa parametru ewlieni li jirregola l-ħxuna tal-film anodizzanti u t-tipi ta' kuluri ta 'interferenza ta' ligi tat-titanju. Meta l-vultaġġ ikun baxx wisq, is-saħħa tal-kamp elettriku mhix biżżejjed biex issuq ir-reazzjoni ta 'ossidazzjoni sħiħa, ir-rata ta' formazzjoni tal-film hija bil-mod, u l-ħxuna tal-film hija insuffiċjenti, u tagħmilha diffiċli biex tifforma kulur strutturali sħiħ u qawwi, li jaffettwa d-dehra u l-funzjonalità.
Madankollu, vultaġġ eċċessiv għandu riskji multipli: minn naħa waħda, li jaqbeż il-vultaġġ ta 'tqassim kritiku se jwassal għal tqassim dielettriku lokali, li jirriżulta f'difetti fil-film; Min-naħa l-oħra, l-istress tat-tkabbir tas-saff tal-film jiżdied taħt vultaġġ għoli, li faċilment jista 'jikkawża distribuzzjoni irregolari tal-ħxuna tal-film, li mbagħad iwassal għal sfumaturi differenti ta' kulur. Ir-rata tal-bidla tal-vultaġġ jeħtieġ ukoll li tkun ikkontrollata b'mod strett, u r-rampa tal-vultaġġ veloċi wisq tagħmel l-istruttura tal-film diffiċli wisq biex tiġi organizzata mill-ġdid u tistabbilizza, li tirriżulta fi tranżizzjonijiet ta 'kulur imċajpra u konfini mhux ċari.
Fil-proċess ta 'vultaġġ għoli-, il-wiċċ ta' liga tat-titanju jista 'jkollu tqassim punt jew lineari, is-saff tal-film fiż-żona tat-tqassim jonqos, u ż-żona tal-madwar hija anormali fil-formazzjoni tal-film minħabba distorsjoni tal-kamp elettriku, li jiffurmaw spots qawwi lokali jew żoni skuri, li jaffettwa serjament il-konsistenza viżwali.
Il-ħin ta 'ossidazzjoni jaffettwa direttament il-ħxuna finali u l-integrità strutturali tas-saff tal-film. Jekk iż-żmien ikun qasir wisq, il-film tal-ossidu ma jistax jikber biżżejjed, il-ħxuna tal-film hija insuffiċjenti, u l-istruttura mhix densa, li tirriżulta f'kulur ċar u distribuzzjoni irregolari, li ma tistax tikseb protezzjoni effettiva tal-wiċċ u effetti dekorattivi.
Madankollu, ħin ta 'ossidazzjoni twil wisq jista' jintroduċi wkoll effetti negattivi: hekk kif ir-reazzjoni timxi 'l quddiem, ir-rata tat-tkabbir tal-film tonqos gradwalment, u l-effett tal-korrużjoni interfacial jiżdied, u ossidazzjoni eċċessiva tista' twassal għal tqaxxir maħlul, poruż, u anke lokali tas-saff tal-film. Difetti strutturali bħal dawn jistgħu jiddegradaw serjament l-uniformità tal-kulur, it-twaħħil u r-reżistenza għall-korrużjoni tas-saff tal-film. Tipikament, il-ħin għall-anodizzar tal-ligi tat-titanju għandu jiġi stabbilit bejn 30 sekonda u 600 sekonda, skont is-sistema speċifika tal-elettroliti u l-mira tal-proċess.
Matul il-proċess ta 'ossidazzjoni fit-tul-, is-saff tal-film huwa kontinwament espost għall-elettrolit, li jista' jikkawża xoljiment kimiku lokali, li jifforma mikropori u xquq, li jirriżulta fi tnaqqis fil-proprjetajiet ottiċi u telf ta 'funzjoni protettiva.
Id-densità tal-kurrent hija l-parametru ewlieni li jiddetermina r-rata tat-tkabbir tal-film tal-ossidu, u l-uniformità tad-distribuzzjoni tagħha tiddetermina direttament il-konsistenza bejn il-ħxuna tal-film u l-kulur. Jekk id-distribuzzjoni tad-densità attwali hija irregolari, se twassal għal differenzi fir-rati ta 'formazzjoni tal-film f'reġjuni differenti, li jikkawżaw gradjenti tal-ħxuna tal-film, u mbagħad jiffurmaw il-fenomenu ta' "fjoritura" minħabba kundizzjonijiet ta 'interferenza differenti. Pereżempju, arranġament mhux xieraq tal-elettrodu jikkawża li d-densità kurrenti tat-tarf tal-biċċa tax-xogħol jew ħdejn iż-żona tal-arblu tkun għolja, u s-saff tal-film f'din iż-żona jikber malajr wisq, li jista 'jikkawża tħaxxin jew ablazzjoni mhux maħduma. Iż-żona 'l bogħod mill-elettrodu hija rqiqa u ta' kulur ċar minħabba densità ta 'kurrent insuffiċjenti, li tifforma meded jew plakki ovvji.
Għalhekk, id-disinn tal-għodda u t-tqassim tal-elettrodi xierqa huma essenzjali biex tinkiseb distribuzzjoni uniformi tal-kamp tal-kurrent u huma l-prerekwiżiti biex jinkisbu kuluri ta'-kwalità għolja u konsistenti.
Fil-proċess ta 'anodizzar ta' liga tat-titanju, il-parametri bħall-konċentrazzjoni ta 'elettroliti, temperatura, vultaġġ ta' ossidazzjoni, ħin u densità tal-kurrent huma akkoppjati ma 'xulxin, li flimkien jaffettwaw il-proprjetajiet strutturali u l-kulur apparenti tal-film tal-ossidu. Fil-produzzjoni attwali, huwa meħtieġ li tiġi kkunsidrata b'mod sistematiku l-interazzjoni bejn diversi parametri, tgħaqqad il-karatteristiċi materjali tal-liga tat-titanju u r-rekwiżiti tal-użu tal-prodott, u twettaq disinn preċiż u kontroll ta 'ċirku magħluq- tat-tieqa tal-proċess, sabiex tħejji b'mod stabbli prodotti anodizzati liga tat-titanju b'saff ta' film dens, kulur uniformi u prestazzjoni eċċellenti, u tissodisfa r-rekwiżiti stretti tal-kwalità tal-wiċċ fl-aħħar tal-applikazzjonijiet.
